概  述：

水源為二***反滲透產(chǎn)水，水質較好。EDI系統(tǒng)采用50m³/h設計，拋光混床采用60m³/h循環(huán)設計。

一、 原水***性

1．設計水源：二***反滲透產(chǎn)水。

   電導率：≤10us/cm

   PH: 6.0-7.0

   硬度： ≤30umol/L

     水溫：常溫

     二氧化硅：≤100ug/L

二、 系統(tǒng)出力（25℃）

2.EDI

回收率：90-95%

    產(chǎn)水量：50m³/h（25℃）

產(chǎn)水電阻率：15兆歐

3．拋光混床

    產(chǎn)水量：60m³/h（25℃）

產(chǎn)水電阻率：18.2兆歐

三、設計標準與規(guī)范

4.1  國產(chǎn)設備的制造和材料符合以下標準、規(guī)范：

ASTM-D5127-2013(電子及半導體工業(yè)用純水水質要求)

（GB/T 50109-2006）《工業(yè)用水軟化除鹽設計規(guī)范》

（GB/T 13922-2011 ）《水處理設備性能試驗》

（GB/T 19249-2003）《反滲透水處理設備》

（GB 150-2011）《壓力容器》

（GB/T 4272-2008）《設備及管道絕熱技術通則》

（GB 50316-2000（2008版））《工業(yè)金屬管道設計規(guī)范》

（GBJ 87-1985）《 工業(yè)企業(yè)噪聲控制設計規(guī)范》

（HG 20538-1992）《襯塑（PP、PE、PVC）鋼管和管件》

（HG 21501-1993）《襯膠鋼管和管件》

（HG/T 20679-1990）《化工設備、管道外防腐設計規(guī)定》

（HG/T 20592～20614-2009 ）《鋼制管法蘭、墊片、緊固件 （PN系列）》

（JB/T 2932-1999）《水處理設備 技術條件》

（JB/T 4711-2003）《壓力容器涂敷與運輸包裝》

（NB/T47003.1-2009（JB/T 4735.1）《鋼制焊接常壓容器》

（NB/T 47014-2011）《承壓設備焊接工藝評定》

四、 系統(tǒng)工藝及說明

1、工藝流程框圖

二***脫鹽水→UV滅菌器→脫鹽水箱→EDI給水泵→TOC脫除器→0.2um膜濾器

→膜脫氣裝置→EDI裝置→氮封水箱→超純水泵→膜脫氣裝置→TOC脫除器

→拋光混床→0.1um膜濾器→回流UV滅菌器→回流到氮封水箱（10t/h）

↓

              用水點 (50t/h)

2.清洗工藝流程

清洗水箱→清洗水泵→清洗保安過濾器→EDI

五、系統(tǒng)設備簡介

5.1 EDI給水泵

   EDI給水泵的作用是將合格的二***脫鹽水輸送至EDI系統(tǒng)。

5.2 紫外線滅菌器

紫外線滅菌器的作用是殺死純水中的細菌和微生物。紫外線按其生物學作用的差異，

紫外線可分為UV-A(320-400nm)、UV-B(275-320nm)、UV-C(200-275nm)和真空紫外線部分。

水處理中實際上使用紫外線的UV-C部分。波長在240-270nm的紫外線能破壞DNA生產(chǎn)蛋白質及復制的能力。

5.3 TOC脫除器

    TOC脫除器紫外線波長為180納米，可將脫氣膜系統(tǒng)產(chǎn)水中的總有機碳（TOC）分解成離子并脫除。

5.4  0.2um膜濾器

   采用大流量的0.2um濾芯過濾，以去除超純水中可能存在的細小微粒和細菌。

   本系統(tǒng)配置1臺0.2um膜濾器，采用15支0.2umX40寸濾芯過濾。

5.5 EDI系統(tǒng)

EDI是一種將電滲析和離子交換相互結合在一起的除鹽新工藝，該工藝過程取電滲析和離子交換兩者之長，彌補對方之短，即利用離子交換能深度脫鹽來克服電滲析極化而脫鹽不徹底，又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生H⁺和OH^-實現(xiàn)樹脂自再生來克服樹脂失效后通過化學藥劑再生的缺陷。因而EDI技術是一種完美的除鹽工藝。

EDI電去離子膜堆同時進行著如下三個主要過程: 1) 陰、陽混合離子交換樹脂上的OH^- 和H⁺ 離子對水中電解質離子的離子交換過程(從而加速去除純水室內水中的離子)；2)在外電場作用下,水中電解質離子通過離子交換膜進行選擇性遷移的電滲析過程；3) 電滲析的極化過程所產(chǎn)生的H⁺和OH^-及交換樹脂本身的水解作用對交換樹脂進行的再生過程。這三個過程同時發(fā)生，相互促進，實現(xiàn)了EDI連續(xù)去離子。

l EDI進水要求

為了保證 EDI 膜塊在使用中能發(fā)揮***好的效果，必要的進水條件，是需要滿足的。

5.6 氮封水箱

   氮封水箱用于儲存EDI系統(tǒng)產(chǎn)水，其目的是為了保證供水水質的穩(wěn)定，同時可通過水箱的液位控制裝置控制超純水泵的啟停，調節(jié)系統(tǒng)的產(chǎn)水量變化。但是由于超純水與空氣接觸即變質，因此水箱必須用99.995%以上的高純氮氣加以保護。

5.7脫氣膜系統(tǒng)

  為了得到高電阻率的超純水，應該除去水中的二氧化碳和溶解氧氣體。其中，二氧化碳的去除尤為重要。采用脫氣膜可以消除二氧化碳等因素隊水質的影響。系統(tǒng)配有一套完善的脫氣系統(tǒng)，主要有真空泵和脫氣膜組成。

脫氣膜采用微孔中空纖維膜脫除水中的二氧化碳和溶解氧。

在典型的操作運行中，水在中空纖維膜絲外側流動，同時中空纖維膜絲內部抽真空或者施加氣體吹掃，或者兩者結合。經(jīng)過疏水化處理的中空纖維膜絲表面上有很多微孔，這些微孔允許氣體分子穿過，卻能阻擋水分子的穿透。在抽真空或者氣體吹掃的負壓下，中空纖維膜絲外側水中溶解的氣體，通過微孔不斷向中空纖維膜絲內部移動，并被抽真空或者吹掃氣體帶走，從而達到脫除水中溶解性氣體的目的。

5.8拋光混床

為獲得電子、醫(yī)藥或其他行業(yè)用電導率0.055μS/cm（電阻率18.2 MΩ·cm）的理論純水，在普通混床或EDI凈水設備后，通常還裝設拋光混床進行***終的精處理。這種拋光混床用樹脂是相對密度很接近的陰樹脂和陽樹脂的混合物，由于無法將這種樹脂的陰、陽樹脂分離，不能用酸堿將它們分別再生，所以這種拋光樹脂失效后，不能再重復使用。

5.9  0.1um膜濾器

   采用大流量的0.1um濾芯過濾，以去除超純水中可能存在的細小微粒和細菌。主要是控制微小顆粒、樹脂破碎的碎末等。

5.10  回水紫外線殺菌器

   主要作用是保證終端系統(tǒng)的回水水質。

5.11清洗系統(tǒng)

EDI膜堆一般運行一定時間需要清洗消毒，以保證設備的使用壽命。其操作過程必須嚴謹，需由專業(yè)人員完成。

(1) 化學清洗系統(tǒng)包括清洗箱、清洗泵、保安過濾器及和連接的管道、接頭、監(jiān)測儀表等。

(2) 清洗系統(tǒng)清洗箱、管道材質、水泵及清洗保安過濾器均為符合適用于所有的清洗液相應耐腐等***。

五、電氣控制系統(tǒng)

控制系統(tǒng)采用PLC+上位機控制系統(tǒng)�？蓪崿F(xiàn)手動/自動的切換，并預留以太網(wǎng)接口，可接入中控室進行遠程操作。整個系統(tǒng)包括（水箱和水泵）的實現(xiàn)就地控制。乙方提供的PLC對系統(tǒng)過程進行集中監(jiān)控。即脫水處理站生產(chǎn)過程的監(jiān)控、操作及狀態(tài)監(jiān)控、故障報警、顯示、累計和調節(jié)、程序的控制、報警的確認、消音和復位，均由乙方提供的PLC實施。同時部分參數(shù)送至甲方的DCS系統(tǒng)進行顯示。

六、設備配置表（詳細電聯(lián)）